开放式集成電(diàn)路工艺研发平台

研发中心拥有(yǒu)一个独立完整的开放式集成電(diàn)路工艺研发平台，包括一个4500平方米的12英寸工艺線(xiàn)标准洁净厂房，其中洁净室使用(yòng)面积3000平方米，洁净室支持區(qū)面积1500平方米，可(kě)装备一条12寸工艺研发線(xiàn)，开展单项工艺、模块工艺研发。目前已建成12英寸铜互连工艺和部分(fēn)前道工艺的12英寸工艺。该研发平台可(kě)向所有(yǒu)的半导體(tǐ)生产厂商(shāng)、设备及材料供应商(shāng)和半导體(tǐ)研究机构开放，并根据具體(tǐ)的双边或多(duō)边协议，共同进行工艺技术研发。

12英寸引导線(xiàn)净化间